鈰銨氧化劑can 透明導(dǎo)電膜蝕刻

鈰銨在電子材料里主要干兩件事：
高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料
選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導(dǎo)電膜蝕刻
1. 半導(dǎo)體 & 集成電路
CMP 拋光液（化學(xué)機械拋光）
電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于：
硅晶圓平坦化
SiC、GaN 寬禁帶半導(dǎo)體拋光
銅互連層拋光
特點：硬度適中、缺陷少、原子級平整度。
光掩模鉻層蝕刻
鈰銨是鉻掩模標(biāo)準(zhǔn)蝕刻液核心成分：
選擇性好，不傷及光刻膠、玻璃
線寬精度高，用于芯片、面板掩膜版
晶圓清洗與表面處理
強氧化性，去除有機物、金屬雜質(zhì)，提高后續(xù)成膜 / 鍵合良率。