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貞光科技獲悉,臺積電2納米建廠計劃啟動

發(fā)布時間:2024-01-12 07:14:09 來源:互聯(lián)網(wǎng) 分類:工業(yè)機械知識

文章摘要: 貞光科技獲悉,臺積電2納米建廠計劃啟動?車規(guī)及工業(yè)元器件金牌供應(yīng)商貞光科技從臺灣媒體獲悉,新竹科學園區(qū)寶山二期擴建計畫環(huán)評過關(guān),晶圓代工龍頭臺積電為2奈米量身打造的Fab 20晶圓廠投資計畫正式啟動,近期將展開土地取得程序,2022年上半年開始進行建廠

貞光科技獲悉,臺積電2納米建廠計劃啟動 ? 車規(guī)及工業(yè)元器件金牌供應(yīng)商貞光科技從臺灣媒體獲悉,新竹科學園區(qū)寶山二期擴建計畫環(huán)評過關(guān),晶圓代工龍頭臺積電為2奈米量身打造的Fab 20晶圓廠投資計畫正式啟動,近期將展開土地取得程序,2022年上半年開始進行建廠作業(yè)。臺積電Fab 20晶圓廠位于研發(fā)晶圓廠旁,共將興建4期廠房,預(yù)計2024年開始進入量產(chǎn),將是臺積電首座導入全新世代的奈米層片(nanosheet)架構(gòu)2奈米制程的超大型晶圓廠(GigaFab)。 ? 臺積電晶圓建廠計劃 包括臺積電、英特爾、三星晶圓代工等半導體大廠現(xiàn)階段先進制程所采用的鰭式場效電晶體(FinFET)架構(gòu),都是依賴前臺積電技術(shù)長、現(xiàn)為美國柏克萊大學教授胡正明發(fā)明的FinFET技術(shù)所開展。原本FinFET架構(gòu)推出是為了解決漏電問題,但隨著制程推進至3奈米,短通道效應(yīng)讓微縮難度大增,且產(chǎn)生控制漏電的物理極限問題,所以三星在3奈米導入環(huán)繞閘極(GAA)電晶體架構(gòu),英特爾及臺積電則在2奈米跨入GAA架構(gòu)。 ? 臺積電正在研發(fā)中的GAA架構(gòu)2奈米制程,采用全新世代的奈米層片技術(shù)。 FinFET結(jié)構(gòu)是利用垂直立體設(shè)計,架構(gòu)看起來像是魚鰭而有此稱呼,此一改變讓閘極跟鰭(Fin)能接觸的面積增加,在制程微縮時可下降漏電問題,但制程微縮讓空間愈小,鰭的垂直設(shè)計遇到很大的空間上的挑戰(zhàn),所以將鰭由垂直轉(zhuǎn)為水平就成為奈米層片GAA架構(gòu),而且制程繼續(xù)微縮就會成為所謂的奈米線(Nanowire)GAA架構(gòu)。 ? 臺積電2奈米研發(fā)進度符合預(yù)期,隨著寶山二期擴建計畫環(huán)評過關(guān),臺積電隨即進入土地取得程序,預(yù)期2022年可開始動工興建。設(shè)備業(yè)者指出,臺積電為2奈米制程量身打造的Fab 20超大型晶圓廠,將分為4期廠房逐步動工,前2期廠房預(yù)估會在2023年下半年完工并展開裝機作業(yè),2024年下半年可望進入量產(chǎn)階段,2奈米4期廠房全部完工量產(chǎn)時程約落在2025~2026年,總月產(chǎn)能將逾10萬片規(guī)模。 ? 臺積電在技術(shù)論壇指出,對于3奈米之后更先進技術(shù),臺積電在奈米層片裝置方面取得重大突破,提供短通道控制,為在低電壓下實現(xiàn)良好效能提供了機會,期望可以將奈米層片效能提高高于10%以上。同時,臺積電還創(chuàng)建一種將金屬與2D材料結(jié)合的新方法,改善了接觸阻力和為縮小元件尺寸的最小接觸長度,低溫傳輸過程及原子級薄膜面間和通道材料,將為未來的2D電子產(chǎn)品鋪路。至于1D碳奈米管電晶體方面也取得進步,在制作高質(zhì)量、超薄介電系統(tǒng)方面有突破性進展。貞光科技綜合 ? 相關(guān)內(nèi)容:貞光科技被業(yè)內(nèi)稱為車規(guī)及工業(yè)元器件金牌供應(yīng)商,為客戶提供車規(guī)電容、車規(guī)電阻、車規(guī)晶振、車規(guī)電感、車規(guī)連接器等車規(guī)級產(chǎn)品和行業(yè)解決方案,成立于1998年的貞光科技是三星、國巨、愛普生、AVX、奇力新、風華高科、京瓷、泰科等海內(nèi)外三十多個原廠的授權(quán)代理。 ? 免責聲明:本文源自網(wǎng)絡(luò),文中觀點不代表貞光科技立場,如有侵權(quán)請聯(lián)系刪除。

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