3nm切片結(jié)構(gòu)解析-掃描電鏡fib

【FA熱點(diǎn)截面分析一站式服務(wù)】

3nm切片結(jié)構(gòu)解析-掃描電鏡fib
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失效分析(FA)中,熱點(diǎn)定位與截面表征是診斷芯片異常的關(guān)鍵。廣電計(jì)量集成OBIRCH等熱點(diǎn)抓取技術(shù)與DB-FIB截面加工,提供一站式分析服務(wù)?!緩V電計(jì)量SEM/TEM測試服務(wù)】通過離子束精準(zhǔn)切割熱點(diǎn)區(qū)域,結(jié)合SEM/TEM觀察,可揭示短路、漏電、層間缺陷等微觀問題。服務(wù)覆蓋Wafer、IC、MEMS、激光器等半導(dǎo)體器件,按小時計(jì)費(fèi),高效響應(yīng)客戶需求。我們憑借先進(jìn)制程經(jīng)驗(yàn)與多方法融合能力,幫助客戶快速定位故障根源,提升產(chǎn)品良率與可靠性。

【不耐輻照樣品的預(yù)處理方法】
部分有機(jī)物或柔性材料在離子束下不穩(wěn)定,制約FIB應(yīng)用。預(yù)處理方法包括低溫固定、導(dǎo)電涂層與低電壓掃描,提升樣品耐輻照性。服務(wù)覆蓋新型顯示材料、生物傳感器等領(lǐng)域,按小時報(bào)價(jià)?!緩V電計(jì)量SEM/TEM測試服務(wù)】以多技術(shù)融合能力,拓展DB-FIB在跨行業(yè)中的應(yīng)用邊界。

【FIB倒切法制備TEM樣品的創(chuàng)新實(shí)踐】
FIB倒切法是一種高效制備橫截面樣品的工藝,尤其適用于多層結(jié)構(gòu)芯片。通過倒切技術(shù),精準(zhǔn)暴露目標(biāo)界面,避免正面加工帶來的損傷。該方法已應(yīng)用于先進(jìn)封裝、TSV通孔等場景,提升制樣效率與成功率?!緩V電計(jì)量電鏡掃描測試】持續(xù)優(yōu)化工藝參數(shù),為客戶提供更經(jīng)濟(jì)、更快速的TEM制樣選擇。

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