上海晶圓級(jí)FIB制樣TEM/SEM分析-3nm切片結(jié)構(gòu)解析

【非硅基材料FIB制樣與TEM分析】

除硅基芯片外，DB-FIB服務(wù)擴(kuò)展至砷化鎵（GaAs）、氮化鎵（GaN）、碳化硅（SiC）等非硅基材料。這類材料通常具有高硬度、熱敏感或易損傷特性，需按小時(shí)計(jì)費(fèi)定制化制樣?！緩V電計(jì)量電鏡掃描測試】通過優(yōu)化離子束能量與掃描策略，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)截面或平面加工，避免材料相變或結(jié)構(gòu)破壞。結(jié)合TEM分析，可解析界面缺陷、晶格畸變與成分分布，廣泛應(yīng)用于功率器件、光電子元件與新型半導(dǎo)體研發(fā)。廣電計(jì)量以技術(shù)積累與全流程管控，為客戶提供高適配性解決方案。

【3D TEM法在芯片失效分析中的創(chuàng)新】
3D TEM法通過連續(xù)切片與圖像重構(gòu)，實(shí)現(xiàn)芯片缺陷的三維可視化。將DB-FIB與TEM結(jié)合，應(yīng)用于熱點(diǎn)、孔洞、裂紋等立體缺陷分析。案例中，我們通過該方法成功定位某一先進(jìn)制程芯片的層間短路點(diǎn)，為客戶提供立體失效機(jī)制報(bào)告?！緩V電計(jì)量SEM/TEM測試服務(wù)】不僅提升分析深度，還縮短診斷周期，成為復(fù)雜故障排查的利器。

【熱敏感型TEM樣品框架結(jié)構(gòu)法制備】
針對(duì)鋰電材料、石墨烯電極等熱敏感樣品，新型框架結(jié)構(gòu)法DB-FIB制樣技術(shù)通過構(gòu)建支撐框架，避免離子束輻照導(dǎo)致的結(jié)構(gòu)熔融或相變，確保超薄切片的完整性。該服務(wù)按小時(shí)計(jì)費(fèi)，已成功應(yīng)用于多家新能源企業(yè)與科研機(jī)構(gòu)，推動(dòng)新材料研發(fā)與性能優(yōu)化?！緩V電計(jì)量SEM/TEM測試服務(wù)】