光刻掩膜版 材料 鈰銨16774-21-3

山東德盛新材料有限公司 2026-03-30 16:40:03

光刻掩膜版 材料 鈰銨16774-21-3
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鈰銨（CAN, (NH?)?Ce (NO?)?） 是微電子與顯示產業(yè)中 鉻（Cr）及氧化鉻（CrO?）薄膜 的標準濕法蝕刻劑，核心用于光刻掩膜版、LCD/TFT 陣列、OLED 電極、微機電系統(tǒng)（MEMS） 的圖形化加工。
16774-21-3鈰銨工業(yè)級，電子級鈰銨，醫(yī)藥級鈰銨高含量99.999%

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劉學強

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