高溫坩堝材料氧化釔(三氧化二釔)
山東德盛新材料有限公司
2026-04-03 17:30:00






主流應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造(核心應(yīng)用)
刻蝕機(jī)腔體、靜電吸盤(ESC):抗氟等離子腐蝕,低金屬污染,保護(hù)晶圓。
陶瓷涂層:沉積在腔體內(nèi)壁,延長壽命。
光學(xué)與激光
紅外窗口 / 整流罩:用于導(dǎo)D彈、紅外熱像儀、高溫爐觀察窗。
激光介質(zhì):摻 Nd3?、Yb3?的 Y?O?陶瓷,用作高功率固體激光增益介質(zhì)。
結(jié)構(gòu)與耐高溫
高溫坩堝:熔煉貴金屬、稀土金屬。
航空航天:火箭噴嘴、發(fā)動機(jī)熱端部件。
機(jī)械密封:化工、泵業(yè)的耐磨耐蝕密封環(huán)。




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劉學(xué)強(qiáng)
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